纳米压印应用于微纳光学产品量产解决方案与最新进展

11月15日艾邦在上海举办了第四届AR/VR产业链论坛。天仁微纳受邀参展，天仁微纳北区销售总监李心出席了本次活动，并以《纳米压印应用于微纳光学产品量产解决方案与最新进展》为题进行了分享。

纳米压印光刻是光刻技术的一种，基本原理是在基底上涂附压印胶，通过一个原始的章（模具）去贴合该基底，用胶水填充微纳结构，最后再通过固化、脱模完成结构的转移。根据胶材的固化方式、压印的原理、材料的特性不同，可细分为很多种形式。

对比传统投影式光刻：

从结构的实现精度上来看，纳米压印光刻可以实现几纳米的线宽范围；
同时纳米压印光刻技术可以适配多样性的结构，例如三维的棱镜、棱柱、微透镜等等；
针对成型材料，压印胶既可以选择掩膜刻蚀材料，例如光刻胶，也可以选择带有光学性能的，高折/中折/低折的压印胶，压印胶在压印之后可以直接作为产品的结构进行切割出货，不需要刻蚀，制作过程简便；
从价格上来说，纳米压印设备比传统的投影式光刻机便宜一到两个数量级，极具性价比。

天仁微纳主要生产晶圆级的纳米压印设备，目前已应用于消费类电子产品、车载光学、AR眼镜、生物芯片及其他前沿显示领域。在AR上，天仁微纳的纳米压印设备主要用于生产基于表面浮雕光栅的衍射光波导镜片，以及用于眼动追踪和手势操作的摄像头Lens结构。

天仁微纳目前的纳米压印光刻设备阵列包括预处理设备、纳米压印光刻设备、Uni系列桌面型设备等。对于企业型客户，天仁微纳提供GL SR300步进式纳米压印光刻/拼版设备、GL150/300 CLIV高精度紫外纳米压印光刻设备、GL300 Cluster全自动纳米压印光刻生产线。

天仁微纳的UniPrinter是研发型Desktop纳米压印光刻设备，长度931mm，宽度689mm，是小型的桌面设备。UniPrinter可以实现自动复制工作模具、自动压印、自动曝光、自动脱模，除需要手动上下片外，压印全流程基本实现自动化。

GL300 Cluster是针对企业型客户推出的200/300mm全自动纳米压印光刻生产线，可以实现8寸和12寸整料盒的上下料，配有的一个或多个机械手从料盒取片后，将其放到光学对位平台，随后进行清洗，清洗工位可以实现干进干出，然后送到Plasma工位进行表面的改性和增粘，涂覆压印胶之后进行压印。GL300 Cluster整合了自动上料、清洗、涂胶、冷热版、压印于一体，对于涂胶后需要立刻压印的情况来说，能保证收缩一致性。代表性的压印成果包括斜齿光栅、闪耀光栅、WGP线栅偏振片、MLA微透镜等多种结构。

GL300Clsuter纳米压印生产线

天仁微纳建设了“一站式”的服务平台，拥有模具制造、纳米压印、表征测试等方面的设备，能实现8寸、12寸大面积的模具制作，提升批量生产能力。目前在12英寸基底，天仁微纳可以压印25片衍射光波导镜片，高度差距可以控制在1纳米以内。在压印的弱项——对位方面，天仁微纳目前偏移量在±2-3 μm以内。

本文来源天仁微纳北区销售总监李心在艾邦第四届AR/VR产业论坛上的演讲，论坛可公开资料下载及视频回放，请关注公众号“艾邦VR产业资讯”后，回复“20231115”获取。

原文始发于微信公众号（艾邦VR产业资讯）：纳米压印应用于微纳光学产品量产解决方案与最新进展

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